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    RKD 化學(xué)開(kāi)封機(jī) Elite Etch

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體輔助設(shè)備-其他

    庫(kù)       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國(guó)

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    面議
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    品牌：

    型號(hào)：

    所屬系列：半導(dǎo)體輔助設(shè)備-其他

     RKD 化學(xué)開(kāi)封機(jī) Elite Etch
    詳細(xì)介紹




    機(jī)器尺寸(mm) ;   190 x 320 x 305 

    溫度范圍

    1) 發(fā)煙硫酸： 25C - 250C

    2) 發(fā)煙硝酸： 25C - 90C

    3) 混酸： 25C - 100C (Elite Etch)

    4) 混酸(專利)：10C -100C (Elite Etch Cu)

     

    抽酸流量   :  1-8 ml / minute 

     


    蝕刻頭組件:          固定式碳化硅(保固3年)

     


    N2 氣體支持         2.0 lpm (安全蓋子+泵)氣壓為60-70psi

     


    安全

    1) 自動(dòng)顯示錯(cuò)誤信息

    2) 設(shè)置EMO緊急停止按扭

    3) 漏酸偵測(cè)在設(shè)備內(nèi)部和瓶子BOX里

    4) 采用光纖感應(yīng)蓋子的密合度(不是耗材)

    5) 所有管路一體化設(shè)計(jì)，雙層保護(hù)套，并且酸瓶盒配有蓋子

     


    廢酸瓶  :      1個(gè) 

     

    固定樣品方式: 子蓋下以后，自動(dòng)從上到下，直接固定樣品

     

    密封圈  :  圓型（不是耗材）

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