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精密拋光設(shè)備通過超細拋光液對半導體材料進行拋光,實現(xiàn)平整度,粗糙度等高指標技術(shù)要求。
設(shè)備所有的功能,由控制面板按鍵來控制,每一控制參數(shù),均有獨立的按鍵控制,便于售后的維修服務(wù),可以控制成本。
研磨拋光盤運行由主驅(qū)動部分控制,盤的轉(zhuǎn)速變化可從每分鐘0轉(zhuǎn)到每分鐘100轉(zhuǎn),從而保證了不同工藝要求的參數(shù)。
控制面板上定時控制,能夠設(shè)定連續(xù)運轉(zhuǎn)多至10個小時,給操作者以最大的自由操控性。
在設(shè)備的側(cè)面,設(shè)計有除液口,用于廢液的導出,使得整個工藝過程變得簡單快潔。
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