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    去光阻液 奧首

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體原材料-化學品-溶劑溶液

    庫       存：

    1000

    產(chǎn)       地：

    中國-江蘇省

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：

    型號：

    所屬系列：半導體原材料-化學品-溶劑溶液

     
    產(chǎn)品名稱 產(chǎn)品外觀 密度 pH(3%) 用途及使用方法 產(chǎn)品特點
    ASTP100 無色至淡黃色透明液體 1.00-1.10 11.0-12.0 用于藍寶石襯底芯片及PSS片的去膠；浸泡或超聲下原液使用，溫度80-85℃。 （1）堿性有機體系； （2）對Al，GaAs不腐蝕；
    ASTP120 無色至淡黃色透明液體 1.00-1.10 11.0-12.0 用于藍寶石襯底芯片及PSS片的去膠；浸泡或超聲下原液使用，溫度80-85℃。 （1）堿性有機體系； （2）對Al，GaAs不腐蝕； （3）去膠壽命長；
    ASTP130 無色透明液體 1.00~1.10 11.0~12.0 用于半導體和 LED 芯片正性和負性光刻膠的去除 清洗能力強，正性和負性膠通用。與 Al、GaAs和 AGIP有良好的相容性，使用壽命長
    ASTP150 無色至淡黃色透明液體 1.00-1.10 11.0-12.0 用于藍寶石和砷化鎵襯底芯片的去膠；浸泡或超聲下原液使用，溫度80-85℃。 （1）強堿性有機體系； （2）去膠能力強，高效去除ICP后的殘膠；
    ASTP210 無色至淡黃色透明液體 1.05~1.10 11.0~12.0 用于半導體和 LED 芯片正性和負性光刻膠的去除 清洗能力強，正性和負性膠通用。與 Al、GaAs和 AGIP有良好的相容性，使用壽命長
    ASTP300 無色至淡黃色透明液體 1.00~1.10 2.0~3.0 用于半導體和 LED 芯片、PSS 片正性和負性光刻膠的去除 清洗能力強，正性和負性膠通用。與 Al、GaAs和 AGIP有良好的相容性，使用壽命長
    ASTP316 淡黃色透明液體 1.00-1.10 2.0-3.0 用于黃光GaAs芯片去膠；浸泡或超聲下原液使用，溫度80-85℃。 （1）酸性有機體系； （2）對GaAs無腐蝕；

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