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當(dāng)前位置: 首頁(yè) » 耗材館 » 半導(dǎo)體原材料 » 化學(xué)品 »清洗液 奧首
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    清洗液 奧首

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體原材料-化學(xué)品

    庫(kù)       存：

    1000

    產(chǎn)       地：

    中國(guó)-江蘇省

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌：

    型號(hào)：

    所屬系列：半導(dǎo)體原材料-化學(xué)品

     
    產(chǎn)品名稱(chēng) 產(chǎn)品外觀(guān) 密度 pH(3%) 用途及使用方法 產(chǎn)品特點(diǎn)
    APVS3001 無(wú)色至淡黃色透明液體 1.00-1.10 12.0-13.0 用于藍(lán)寶石片研磨拋光后清洗；浸泡或超聲下與水稀釋使用，溫度55-65℃。 （1）堿性水基體系，清洗能力強(qiáng)；（2）易漂洗，清洗后表面顆粒少；
    APVS3002 無(wú)色至淡黃色透明液體 1.00-1.10 12.0-13.0 用于藍(lán)寶石片研磨拋光后清洗；浸泡或超聲下與水稀釋使用，溫度55-65℃。 （1）堿性水基體系，清洗能力強(qiáng)；（2）易漂洗，清洗后表面顆粒少；
    APVS3006 無(wú)色至淡黃色透明液體 1.10-1.20 12.0-13.0 用于藍(lán)寶石片研磨拋光后清洗；浸泡或超聲下與水稀釋使用，溫度55-65℃。 （1）堿性水基體系，清洗能力強(qiáng)；（2）顯著提高退火前清洗良率；
    APVS3008 無(wú)色至淡黃色透明液體 0.70-1.00 12.0-13.0 用于PSS片、外延片和芯片的清洗，代替硫酸/雙氧水體系；浸泡或超聲下與水稀釋使用，溫度45-50℃。 （1）堿性水基體系，替代硫酸/雙氧水和丙酮清洗；（2）單位體積清洗片數(shù)多；（3）環(huán)保、安全，使用方便；

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