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公司以成熟的技術(shù)和穩(wěn)定的工藝為您提供滿意的產(chǎn)品，拋光革是采用精密的技術(shù)將聚氨脂和纖維織物合成的拋光材料，在拋光過(guò)程中具有彈性好，力道柔和，無(wú)劃傷，無(wú)塌邊的特點(diǎn)。例如，拋光后的磁鋼汞晶片的厚度僅為8—10U，其精度之高可見(jiàn)一斑。為此，這就對(duì)拋光布提出非?？量桃螅黄浔砻嫖⒖讓蛹纫獫M足碲鎘汞晶片拋光的各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)，同時(shí)。又要在其背面的膠粘劑層有優(yōu)良的抗化學(xué)拋光液的能力，而保持足夠的剝離強(qiáng)度等特點(diǎn)。多用于高精度鏡面體的拋光。

　　公司生產(chǎn)銷售的單層結(jié)構(gòu)拋光革、雙層結(jié)構(gòu)拋光革，可以廣泛應(yīng)用于水晶、玻璃、不銹鋼等產(chǎn)品的拋光，還可用于鍺酸鉍、砷化鎵等半導(dǎo)體材料及彩電玻殼、煤片、單晶硅和多晶硅的拋光，應(yīng)用前景良好。

　　規(guī)格：
單層結(jié)構(gòu)拋光革寬度 1000mm 厚度：0.8 1.0 1.2 1.5 1.8 2.0 2.5 mm
雙層結(jié)構(gòu)拋光革寬度1380-1400 mm 厚度：1.2-1.4mm(精拋)

單層結(jié)構(gòu)拋光革、雙層結(jié)構(gòu)拋光革拋光布上海權(quán)友

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單層結(jié)構(gòu)拋光革、雙層結(jié)構(gòu)拋光革 拋光布 上海權(quán)友

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