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LP系列聚氨酯拋光墊是美國環(huán)球的核心產(chǎn)品，在過去80多年時間里環(huán)球光學致力于拋光行業(yè)的發(fā)展，已開發(fā)了拋光墊生產(chǎn)線迎接電子行業(yè)的飛速發(fā)展需求。JH Rhodes公司成立于1899年，超過110年的拋光耗材生產(chǎn)經(jīng)營，于1975年成為環(huán)球光學的子公司并開發(fā)聚氨酯拋光墊技術服務于其核心市場的需求。作為他們的代理商，我們致力于支持前沿客戶。我們有一支高素質(zhì)的專業(yè)團隊，提供加工/應用工程等技術基礎上的支持。

環(huán)球光學已經(jīng)具有40多年拋光墊發(fā)泡技術經(jīng)驗。LP系列拋光墊由一種特殊的微孔發(fā)泡材料制成，設計用于加工高平坦度要求及光潔度要求。聚氨酯材料可以使拋光墊非常堅硬耐磨同時保持多孔。這種堅硬耐磨可使拋光墊終身保持平坦一致性。已經(jīng)開發(fā)用于各種各樣需求及基板材料的平面球面加工和磨削加工。

加工材料 / 應用包括:

v 半導體基板

v 平板玻璃/LCD/FPD

v 精密光學元件

v 磁盤存儲器基板

v 磁盤驅(qū)動頭

填充物：LP系列拋光墊可提供有各種密度的磨料填充物與無填充物。填充磨料包括氧化鈰、氧化鋯及硅等。

LP系列聚氨酯拋光墊物理特性及典型應用

(增加典型應用列表)

型號	密度 (lb/ft³)	硬度 (肖氏 A)	填充物	典型應用
LP-13	22	66	氧化鈰	玻璃；精密光學
LP-26	36	88	氧化鋯	精密光學
LP-46	25	74	氧化鋯	光纖精密光學
LP-57	32	88	無	精密光學半導體基板
LP-66	26	78	氧化鈰	玻璃精密光學 LCD 玻璃磁盤
LP-70	26	78	氧化鈰	玻璃精密光學
LP-77	27	78	氧化鈰	玻璃精密光學
LP-87	49	96	無	玻璃精密光學
LP-88	70	n/a	氧化鈰	精密光學
LP-U	44	95	無	精密光學半導體基板
ESM-013	37	84	無	精密光學半導體基板
GR-25	28	81	無	精密光學
GR-35	37	90	氧化鋯	精密光學 LCD
Laser	36	90	專利	精密光學

標準規(guī)格大小：23 x 55 inches（584.2 x 1397mm），最大尺寸可以做到41 x 82 inches (1,041 x 2,083mm) & 62 x 62 inches (1,575 x 1,575mm)，不同大小及形狀都可以根據(jù)客戶要求定制。

標準規(guī)格厚度：從0.020到0.20 inches (從0.508到5.08mm)，最大厚度可以做到1英寸（25.4mm)，基于不同應用其它不同厚度都可以定制。

開槽：我們的拋光墊可以開各種槽形，槽可幫助拋光液流動并帶走切削的細屑。

常規(guī)開槽規(guī)格
開槽編號	方格大小(mm)	槽寬(mm)
#2	2×2	1.0
#5	5×5	1.0
#10	10×10	1.0
#15	15×15	1.5
#20	20×20	1.5
#30	30×30	2.0
#40	40×40	3.0
#70	70×70	3.0
#90	90×90	3.0

說明：

開槽拋光墊最小厚度1mm

標準槽深為拋光墊厚度1/2

可以為客戶不同開槽要求定制

美國環(huán)球聚氨酯拋光墊

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