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一種新型產(chǎn)品，它不會(huì)破壞表面的硅或氧化硅，因?yàn)樗糠秩軇┙M成。它的清潔能力是很強(qiáng)，清洗后任何蠟，膠或粒子都不會(huì)殘留在晶圓的表面。傳統(tǒng)的中性水溶性清洗劑與它的清潔能力是無(wú)法相比的。用本品清洗后也不會(huì)造成工件后道工藝的麻煩，它的殘留很容易被清除。

特點(diǎn)：可作為電子零件，顯示器玻璃（液晶顯示器，等離子等）和精密零件的清洗劑。適用清除硅片刻蝕過(guò)程中帶上的蠟，膠等顆粒。

清洗液是能去除顆粒和有機(jī)物質(zhì)的堿性溶液。由于過(guò)氧化氫為強(qiáng)氧化劑，能氧化硅片表面和顆粒。顆粒上的氧化層能提供消散機(jī)制，分裂并溶解顆粒，破壞顆粒和硅片表面之間的附著力，而脫離硅表面。過(guò)氧化氫的氧化效應(yīng)也在硅片表面形成一個(gè)保護(hù)層，阻止顆粒重新粘附在硅片表面。隨后將硅片放入到10%的溶液中浸泡2分鐘，可以將硅片表面自然生成的氧化膜去除并抑制氧化膜再次形成，同時(shí)還可以將附著在氧化膜上的金屬污染物溶解掉。

濕法清洗工藝用于去除硅片表面的金屬。用高氧化能力和低PH值的溶液，才能去除表面的金屬粘污。此時(shí)，金屬被氧化成為離子并溶于酸液中，金屬和有機(jī)物粘污中的電子被清洗液俘獲并氧化。因此電離的金屬溶于溶液中，而有機(jī)雜質(zhì)被分解。繼續(xù)用在室溫下清洗硅片2分鐘，最后用去離子水超聲清洗數(shù)次去除殘留的洗液。

硅片清洗劑

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