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    GXE200系列等離子刻蝕機 半導體應用

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-刻蝕設備

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    中國-北京市

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-刻蝕設備

     面向4-8英寸襯底0.25μm以上技術代的通用高密度等離子體刻蝕設備，集成高密度等離子體源、高壽命卡盤、精密的腔室溫度控制系統(tǒng)，快速匹配的射頻系統(tǒng)等多項先進技術。GXE刻蝕機可滿足硅、介質、化合物半導體的刻蝕工藝需求。
    GSE200系列等離子刻蝕機
     
    • 支持8 路氣體配置
    • 適用于多種材料刻蝕的研發(fā)及失效分析
    • 提供研發(fā)所需的豐富的工藝數(shù)據(jù)庫支持
    • 適用于8 寸及以下各種形狀的樣片加工
    • 低運營成本
     
    GDE200系列等離子刻蝕機
     
    • 適用于光波導、SiC 等介質刻蝕工藝領域
    • 低使用成本，低犧牲耗材
    • 界領先的刻蝕速率
    • 成熟的SiC、U-MOS、二極管及通孔刻蝕工藝解決方案
    • 靈活的系統(tǒng)配置，適合研發(fā)、中試線、大規(guī)模生產(chǎn)線的不同應用
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    GCE200系列等離子刻蝕機
     
    • 適用于Ⅲ-V 族、HEMT、激光器領域
    • 可實現(xiàn)低于2nm/min 的GaN 刻蝕速率
    • 低運營成本
    • 有效降低器件損傷
    • 靈活的系統(tǒng)配置，適合研發(fā)、中試線、大規(guī)模生產(chǎn)線的不同應用

    GXE200S
     
    • 單腔室，自動傳輸，適用于研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)；
    • 更小占地面積和操作靈活性，有效降低采購和使用成本；
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    GXE200C
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    • 單腔室，c-c自動裝卸載，自動傳輸，適用于研發(fā)及規(guī)模生產(chǎn)；
    • 更高自動化程度，有效提高生產(chǎn)效率和穩(wěn)定性；
    • 全自動大產(chǎn)能設備，配備多腔室，全自動裝卸載和傳輸模塊，適用于大規(guī)模生產(chǎn)線；
    • 支持批量生產(chǎn)的設備架構，可實現(xiàn)工廠級別的自動化控制，有效降低人力成本和差錯率
     
    GXE200L
    • 全自動大產(chǎn)能設備，配備多腔室，全自動裝卸載和傳輸模塊，適用于大規(guī)模生產(chǎn)線；

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    提問:
     
    問

    請問你這個GXE200系列是單腔的嗎，多少路氣體的，加工幾寸規(guī)格的？

    dssj  2017-07-13

    應用于半導體行業(yè)的相關同類產(chǎn)品：

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    4001027270

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