網(wǎng)站首頁

中|EN

當(dāng)前位置: 首頁 » 設(shè)備館 » 半導(dǎo)體加工設(shè)備 » 鍍膜設(shè)備 » 原子層沉積ALD »英國Oxford OpAL 開放式樣品載入ALD設(shè)備
    •
    包郵 關(guān)注:345

    英國Oxford OpAL 開放式樣品載入ALD設(shè)備

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-原子層沉積ALD

    產(chǎn)品品牌

    英國Oxford

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌：英國Oxford

    型號(hào)：

    所屬系列：半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-原子層沉積ALD

     英國Oxford OpAL ® 開放式樣品載入ALD設(shè)備



    緊湊型開放式樣品載入原子層沉積（    ALD）系統(tǒng)

    OpAL提供了專業(yè)的熱ALD設(shè)備，可以簡(jiǎn)單明了的升級(jí)使用等離子體，使得在同一緊湊設(shè)備中集成了等離子體和熱ALD。

    · 開放式樣品載入熱ALD，集成等離子體技術(shù)

    · 現(xiàn)場(chǎng)升級(jí)到可使用等離子體

    · 從小晶片到200mm大晶片

    適用于學(xué)術(shù)、產(chǎn)業(yè)、研發(fā)的熱和/或等離子體化學(xué)產(chǎn)品，可用于：

    氧化物： HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5
    氮化物：TiN, Si3N4
    金屬： Ru, Pt


    ALD應(yīng)用舉例：

    · 納米電子學(xué)

    · 高k柵極氧化物

    · 存儲(chǔ)電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴(kuò)散勢(shì)壘區(qū)

    · 有機(jī)發(fā)光二極管和聚合物的無針孔鈍化層

    · 鈍化晶體硅太陽能電池

    · 應(yīng)用于微流體和MEMS的高保形涂層

    · 納米孔結(jié)構(gòu)的涂層

    · 生物微機(jī)電系統(tǒng)

    · 燃料電池


    直觀性強(qiáng)的的軟件提高性能

    使用與牛津儀器的值得信賴的Plasmalab ®產(chǎn)品家族相同的軟件平臺(tái)， OpAL的程序驅(qū)動(dòng)、多用戶級(jí)別、PC2000TM控制的軟件易于操作且可為快速ALD做相應(yīng)修改。

    咨詢

    購買之前，如有問題，請(qǐng)向我們咨詢

    提問:
     

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)的相關(guān)同類產(chǎn)品：

    服務(wù)熱線

    4001027270

    功能和特性

    價(jià)格和優(yōu)惠

    微信公眾號(hào)