簡介 

Allalin是一種納米分辨率光譜儀器，基于一種被稱為定量陰極熒光的突破性技術(shù)，它將光學(xué)顯微鏡和掃描 電子顯微鏡（SEM）集成到一個(gè)系統(tǒng)中。Allalin允許“不折不扣”的大視場(chǎng)/快速掃描同時(shí)獲得掃描電鏡成像 與高光譜或全色CL圖。該系統(tǒng)的構(gòu)建是為了在不犧牲掃描電鏡（SEM）性能的前提下獲得最\佳的陰極熒光 性能：光學(xué)顯微鏡和掃描電鏡的物鏡被周密的整合在一起，使它們的焦平面相互匹配；光學(xué)顯微鏡以亞微 米精度加工，與傳統(tǒng)的CL技術(shù)相比，具有高數(shù)值孔徑（N.A.0.71）的消色差、高數(shù)值孔徑（N.A.0.71）檢 測(cè)，在大視場(chǎng)（高達(dá)300µm）下具有優(yōu)\越的光子收集效率。因此，定量陰極熒光，其中與儀器相關(guān)的工件 可以從本質(zhì)上排除作為光譜特征或?qū)Ρ榷鹊脑?，這使陰極熒光首\次變的可信。

Allalin是為那些需要遵循嚴(yán)格的技術(shù)路徑和快速獲取非\常精\確的光譜信息而設(shè)計(jì)的， 而這些信息是傳統(tǒng)方法無\法\企\及的。 在半導(dǎo)體故障分析、開發(fā)和研究中，Allalin的光譜測(cè)量能力為快速可靠的缺陷檢測(cè)和 定位提供了無\與\倫\比的解決方案。經(jīng)過驗(yàn)證的數(shù)據(jù)類型包括位錯(cuò)密度、材料成分波 動(dòng)、應(yīng)變、摻雜劑類型和濃度的測(cè)量；以及其他廣泛的應(yīng)用。 在科學(xué)研究中，Allalin能夠創(chuàng)建納米分辨率的光譜圖，這使得它成為深\入了解納米尺 度材料物理特性的終\極\工具。 Allalin擁有一套全\面的功能選項(xiàng)：覆蓋紫外-紅外波長范圍的各種探測(cè)器選擇、SE檢測(cè) 器、穩(wěn)定的低溫樣品臺(tái)和高靈敏度的EBIC（電子束感應(yīng)電流）檢測(cè)解決方案。

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優(yōu)勢(shì)：

性能優(yōu)勢(shì) 一個(gè)高\(yùn)度精\密集成化的CL-SEM系統(tǒng) 

– 將光學(xué)收集放在電子柱內(nèi)

– 對(duì)于CL，需要零光學(xué)對(duì)準(zhǔn)

 – 在300µm的視野（FOV）范圍內(nèi)最\高的收集效率

 – 確?；瘜W(xué)發(fā)光均勻性和再現(xiàn)性，使系統(tǒng)定量和定 性。定量：在300µm的大FOV（無漸暈）下，光子收 集效率恒定（±1%）；在不移動(dòng)樣本的情況下，執(zhí)行 300µm的圖譜：陰極熒光結(jié)果可重復(fù)且可比較 

– 使用近光劑量，減少了對(duì)敏\感樣品造成光束損壞的可 能性 

– 快！單次高光譜CL-map測(cè)量時(shí)間從18秒到30分鐘不 等，而競(jìng)\爭(zhēng)\對(duì)\手是30分鐘到數(shù)小時(shí)

 – 同時(shí)生成SEM圖像和高光譜CL圖像，而不會(huì)降低電子 探針的尺寸

 – Schottky FEG適用于高電流密度：30 pA至300 nA – CL模式下的掃描電鏡最\高分辨率：低至3nm

 – 直觀的用戶界面和專\用軟件 – 觸摸屏控制，具有易于導(dǎo)航的基于上下文的GUI，無 需專家操作工具 

– 專\用Attomap高光譜分析軟件（見單獨(dú)的手冊(cè)） 

– 具有低溫選項(xiàng)的高精度納米定位工作臺(tái)（10 K至室 溫）

 – 高\(yùn)通用性：光學(xué)集線器，用于在更大的光譜系統(tǒng)中 集成Attolight CL儀器或補(bǔ)充其功能

應(yīng)用示例 ：

?– 納米半導(dǎo)體光學(xué)特性

 – 晶體缺陷檢測(cè)和定位（螺型位錯(cuò)、堆垛缺陷、摻雜物 等）

 – 納米級(jí)成分波動(dòng)的測(cè)定

 – 摻雜計(jì)量 

– 失效分析 

– 納米光子學(xué)