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手動濕法RCA清洗設(shè)備硅密（常州）電子設(shè)備

在IC制造過程中大約有40%的工藝都與清洗、蝕刻相關(guān)，這種設(shè)備的性能、可靠性、產(chǎn)品的質(zhì)量會直接影響到硅電路是否存在污染物，晶圓表面的顆粒雜質(zhì)。

該系列的清洗設(shè)備是可實現(xiàn)全自動、半自動、手動的控制，可用于

RCA clean
Standard clean 1 (SC 1清洗)
Standard clean 2 (SC 2清洗)
HF 最端清洗
有效的光阻、殘留物的去除及剝離
Si或者硅的化合物的刻蝕
超聲/兆聲去除顆粒的工藝制程設(shè)備

等清洗、蝕刻工藝

設(shè)備可滿足2’’-12’’晶圓的清洗、蝕刻，設(shè)備所用材料要能達到清洗工藝中的耐腐蝕及潔凈度的要求，可以達到“超潔凈”的測定所供設(shè)備和材料的設(shè)計、選購、制造、檢驗和測試均按照相關(guān)國家、半導體行業(yè)標準（SEMI-S2-93）執(zhí)行，ISO9001質(zhì)量管理體系進行規(guī)范和保證有機溶劑。

SPMC的生產(chǎn)車間寬敞，布局合理，有1600平米加工制造車間、高精度的CNC加工中心、大尺寸雕刻機；200平米千級和萬級的潔凈室；配備潔凈空氣、氮氣及去離子水；208伏和308伏的三相電壓；配套了先進的進口焊接、剪裁、測試及裝配工具。

硅密（常州）電子設(shè)備有限公司

常州新北區(qū)電子產(chǎn)業(yè)園新科路21號

手動濕法RCA清洗設(shè)備硅密（常州）電子設(shè)備

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