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4001027270
功能概述
該系統(tǒng)為通用離子束刻蝕系統(tǒng),除了可進行傳統(tǒng)三維結構刻蝕外,還可實現(xiàn)離子束清洗、材料表面終極拋光和材料減薄等功能,還可實現(xiàn)化學輔助離子束刻蝕(CAIBE)與反應離子束刻蝕(RIBE)。
可加工材料
系統(tǒng)可用于刻蝕加工各種金屬、合金、非金屬、氧化物、氮化物、碳化物、半導體、聚合物、陶瓷、紅外和超導等各種材料。
應用領域
廣泛適用于半導體、光學、光電子、微電子、微機械、X
射線近代光學、通信、導航、衛(wèi)星、導彈、雷達、核聚變、超導、生物、醫(yī)學、傳感器等多個技術領域,制造各種力、熱、聲、光、電、磁等新型材料與器件。
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