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    LDJ系列雙離子束濺射沉積薄膜系統(tǒng)

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-刻蝕設備-IBE離子束

    產(chǎn)品品牌

    埃德萬斯

    庫       存：

    1000

    產(chǎn)       地：

    中國-北京市

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

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    客服電話：4001027270

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    品牌：埃德萬斯

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-刻蝕設備-IBE離子束

     

    功能概述

    該系統(tǒng)為通用雙離子束薄膜沉積系統(tǒng)，可用于濺射沉積各種金屬、合金、化合物及半導體材料的單層薄膜、多層薄膜，也可將單質(zhì)材料通過反應合成氧化物、氮化物、碳化物薄膜。

    工作模式

    襯底表面離子束濺射清洗（IBSC）

    襯底表面離子束終極拋光（IBP）

    離子束濺射沉積（IBSD）薄膜

    離子束輔助—離子束濺射沉積（IBA-IBSD）薄膜

    離子束輔助—離子束濺射沉積合成（IBA-IBSDS）化合物薄膜

    IBSD-Lift-off薄膜

    應用領域

    適用于各種力、熱、聲、光、電、磁等新型材料與器件的科學研究與批量生產(chǎn)，尤其在制造納米薄膜器件領域具有獨特的技術(shù)優(yōu)勢。

    最寬范圍材料適用性

    與其它常規(guī)CVD、PVD鍍膜技術(shù)相比，離子束濺射鍍膜具有對薄膜材料最普遍的適用性，可濺射沉積的薄膜種類包括金屬、非金屬、合金、化合物和其它任何固體材料。

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