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    德國Raith EBPG5150 電子束光刻機

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-光刻設備-電子束曝光機

    產(chǎn)品品牌

    德國Raith

    庫       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：德國Raith

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-光刻設備-電子束曝光機

     
    德國Raith EBPG5150 電子束光刻機
    詳細介紹

    EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟EBPG5200一樣的通用光刻平臺設計，對電子束直寫應用進行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。 

    00001. 高束流密度，熱場發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換

    00002. 155mm的平臺

    00003. 最小曝光特征尺寸小于8nm

    00004. 高速度曝光，可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器

    00005. 在所有KVs加速電壓下，可連續(xù)改變的寫場大小，最大可以到1mm

    00006. GUI人機交互界面友好，簡潔易用，適用于多用戶環(huán)境

    00007. 多項靈活可選擇的配置，可以適用于不同應用的需求

    可選的系統(tǒng)增強升級

    EBPG5150可以選擇不同的升級選項，以滿足用戶不同的技術和預算需求。讓全世界的高校等研究類用戶也可以使用這款非常先進、高自動化的電子束光刻系統(tǒng)。

    EBPG5150 應用

    · 電子束曝光用于制作GaAs T型器件

     

    · 微盤諧振器

    · 開口環(huán)諧振器

    EBPG5150 產(chǎn)品詳情

    主要應用：

    · 100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結構

    · 高速電子束直寫

    · 批量生產(chǎn)，如化合物半導體器件

    · 防偽標識

    電子光學柱技術：

    · EBPG

    · 電子束

    · 100 kV

    樣品臺：

    · 覆蓋完整6英寸硅片大小

    · 標配2工位自動化上料
    (10工位可選)

     

     
     

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