網(wǎng)站首頁

中|EN

當(dāng)前位置: 首頁 » 設(shè)備館 » 半導(dǎo)體加工設(shè)備 » 光刻設(shè)備 » 電子束曝光機(jī) »英國(guó)Nanobean NB5 電子束光刻機(jī)
    •
    包郵 關(guān)注:1053

    英國(guó)Nanobean NB5 電子束光刻機(jī)

    庫(kù)       存：

    1

    產(chǎn)       地：

    全國(guó)

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價(jià)       格：

    面議
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付
     英國(guó)Nanobean NB5 電子束光刻機(jī)


    具有良好的穩(wěn)定性，平均正常運(yùn)行時(shí)間超過93%

    Nanobean NB5 電子束光刻機(jī)

     


    規(guī)格    :

    束流電壓范圍為: 20kV - 100kV

    光刻膠的特征尺寸: <8nm (光刻精度)

    500um區(qū)域拼接/疊加誤差: 小于25nm

    自動(dòng)裝載5卡盤氣鎖系統(tǒng)

     

    NB5發(fā)展目標(biāo):

    改進(jìn)設(shè)計(jì)和組件以減少日常服務(wù)需求。

    實(shí)現(xiàn)每年少于5%的機(jī)器故障停機(jī)時(shí)間。

    提高性能

    便于批量生產(chǎn)。

     

    NB5系統(tǒng)將為進(jìn)一步發(fā)展高偏轉(zhuǎn)速度和進(jìn)一步集成電子提供平臺(tái)。

    The nB4 is a generation ahead of the current competition and with its field-proven performance has gained acceptance in the market place. It has excellent stability and has demonstrated an average uptime of greater than 93%. NanoBeam now introduces the nB5 which has been developed to further reduce delivery times and service costs.

     

    NB5 development aims:

    Refine design and components to reduce routine service requirements.
    Achieve a machine-fault-downtime of less than 5% annually.
    Enhance performance
    Facilitate volume production.
    Specification:

    Beam Voltage range        20kV - 100kV
    Feature size on resist      <8nm
    Stitching/overlay error    <25nm for 500um field
    Automatic loading            5 chuck airlock system

    The nB5 system will provide a platform for further development to high deflection speed and further integrated electronics.

    咨詢

    購(gòu)買之前，如有問題，請(qǐng)向我們咨詢

    提問:
     

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)的相關(guān)同類產(chǎn)品：

    服務(wù)熱線

    4001027270

    功能和特性

    價(jià)格和優(yōu)惠

    微信公眾號(hào)