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4001027270
產(chǎn)品描述
BG-406系列曝光機(jī)(光刻機(jī)) 主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導(dǎo)體器件制造工藝中的對準(zhǔn)及曝光。該系列曝光機(jī)由4英寸、6英寸單/雙面曝光機(jī)組成,可實現(xiàn)單/雙面對準(zhǔn)、單面曝光、間隙曝光、全曝光。
主要技術(shù)特點
對準(zhǔn)工作臺
對準(zhǔn)精度高,漂移小。精密楔形誤差補(bǔ)償機(jī)構(gòu)實現(xiàn)三點找平,找平力小,延長掩模版使用壽命。
曝光系統(tǒng)
采用柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球鏡等精密光學(xué)件,具有較高的光強(qiáng)、均勻性、光學(xué)分辨率。
分離視場顯微鏡
在X、Y方向通過操作桿可實現(xiàn)大范圍掃描觀察,可進(jìn)行單視場或雙視場切換,提高對準(zhǔn)效率和套刻精度,同時兼容CCD成像液晶顯示功能。
控制系統(tǒng)
電氣控制采用工控機(jī),人機(jī)界面操作菜單清晰,操作方便,汞燈電源易于觸發(fā),可靠性高。該設(shè)備的關(guān)鍵件采用進(jìn)口或?qū)I(yè)廠家制造,提高了設(shè)備的穩(wěn)定性、可靠性,同時提供個性化服務(wù)。
產(chǎn)品參數(shù)
對準(zhǔn)工作臺行程:
X向:±5mm Y向:±5mm
Z向:8mm θ向:±5°
□掩模尺寸:7″×7″
□基片尺寸:φ6″
□曝光方式:軟接觸、硬接觸
真空接觸、間隙曝光、全曝光
□頂部對準(zhǔn)顯微鏡
總倍率:
100X (50X可選)
掃描范圍:50mm×50mm
調(diào)焦范圍:8mm
28-90mm(φ4″基片)
75-150mm(φ4″-φ6″基片)
對準(zhǔn)精度:±0.5um
□底部對準(zhǔn)顯微鏡
總倍率:330X
物鏡分離距離:
X向:50-140mm
Y向:±12mm
對準(zhǔn)精度:±2um
□曝光分辨率:1um (真空接觸)
□曝光間隙: 1-500um
□曝光面積: φ160 mm或φ108 mm
□曝光時間:0-999s 連續(xù)可調(diào)
□曝光不均勻性:
±5% (曝光面積:φ160 mm)
±3% (曝光面積:φ108mm)
□曝光系統(tǒng)及波長
采用250W進(jìn)口超高壓汞燈,UV365
□所需設(shè)施:
輸入電壓:~220v±22v(50Hz)
整機(jī)功率:1KW
室內(nèi)光線:紅光、黃光
壓縮空氣: 0.5~0.7MPa
氮氣: 0.2~0.4MPa
真空: -0.08~-0.14MPa
□體積及重量:
外型尺寸: 1022mm×850mm×1330mm
重量:350kg
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