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原標題：數字游戲不掩性能提升！三星推出“7nm”和“11nm”半導體工藝
【PConline 資訊】隨著技術的進步，芯片這東西，體積越小，也代表著性能越好。而講到芯片，三星 這些年受惠于高通驍龍芯片、AMD Ryzen/Vega/Polaris的成功，三星的代工生意風生水起、日進斗金，二季度收入超越Intel，也使其成為了全球第一大半導體公司。
作為全球第一大半導體公司，三星制程工藝也走在行業(yè)的前列。而就在今天，三星宣布，新加入11nm LPP工藝！這明顯是三星對打臺積電12nm FinFET推出的的芯片，只不過，不論是三星的11nm，還是臺積電的12nm，卻都只是兩家擅自混亂地給制程命名（三星10nm=Intel 14nm）。
三星11nm（改良后的14nm LPP馬甲）芯片性能提升15%，單位面積功耗降低了10%。三星表示，10nm用于旗艦手機，11nm用于中高端，形成差異化，預計2018年上半年在市場投放。
與此同時，三星也成為了市場上最先確認7nm的企業(yè)，其7nm LPP定于2018下半年量產，采用EUV極紫外光刻技術。EUV雖然困難重重，但ASML已經開始出貨定型的光刻機。三星也表示，從2014年開始，基于EUV處理了200000片晶圓，目前在256Mb SRAM（靜態(tài)隨機存儲器）良率已經達到了80%。
關于11nm和7nm更進一步的細節(jié)，三星定于9月15日在東京舉辦的半導體會議上揭示，未來的技術路線圖也會更新。商家資料
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