1. AccuThermo AW410 是一款用高強度可見光加熱單片wafer 或樣片的快速退火系統(tǒng)，其工藝時間短，控
溫精度高。工藝穩(wěn)定時間最大可設置到9999 秒，一般推薦1-600 秒。
2. 相對于傳統(tǒng)的爐管式退火系統(tǒng)，其獨特的水冷腔體設計、先進的溫度控制技術以及Allwin21 研發(fā)的
RTAPRO 軟件控制系統(tǒng)，確保了優(yōu)越的溫度均勻性。
3. 工藝時，wafer 放置在獨立的石英腔體內(nèi)的石英載盤上，通過軟件操作手動或自動加熱模式控制上下兩
排的四組燈管對wafer 進行加熱。
4. RTAPRO 軟件可以全方位控制、監(jiān)控AccuThermo 快速退火系統(tǒng)，允許工程師自由創(chuàng)建、編輯工藝菜單,
5. AccuThermo 快速退火系統(tǒng)的應用:
離子注入激活；多晶硅退火；氧化回流；硅化物形成；歐姆接觸合金
氧化物、氮化物生長
砷化鎵、磷化銦工藝
二、設備特點：
1. 水冷以及鍍金腔體設計在過去30 年里已得到業(yè)內(nèi)認可
2. 上下兩排燈管加熱保證了優(yōu)越的溫度均勻性
3. 采用了閉環(huán)溫度控制設計
4. 實時顯示溫度曲線，適合特殊工藝需要
5. 傳統(tǒng)技術無法實現(xiàn)的快速升溫、降溫速率
6. 穩(wěn)定的片間工藝重復性
7. 隔離的石英腔體結構避免了外部污染
8. 體積小、能耗少
9. 集所有控制為一體的操作軟件
○ 圖形用戶界面
○ 實時工藝過程數(shù)據(jù)采集
○ 實時工藝曲線
○ 工藝數(shù)據(jù)分析
○ 工藝數(shù)據(jù)及菜單存儲于計算機硬盤
○ 多步驟的工藝菜單編輯
○ 工藝菜單編輯操作簡單
○ 系統(tǒng)診斷功能
○ 腔體校準功能易于實現(xiàn)溫度平滑控制
○ 氣路流量軟件校準操作簡單、方便
○ TC 通道軟件校準操作簡單、方便
○ 功率監(jiān)測功能，保證良好的工藝重復性
○ 豐富的硬件診斷功能，方便設備維護及維修
○ 軟件“看門狗”功能，可以及時的切斷燈管電源，有效防止溫度失控
10. 關于AccuThermo 快速退火系統(tǒng)加熱、冷卻、溫度測量模塊的主要特點如下：
○ 以高強度可見光加熱晶片，短時間內(nèi)可升到400-800℃，溫度控制精確。
○ 鹵素燈和金屬腔體冷壁設計滿足快速升溫、降溫需求
○ 軟件系統(tǒng)實時數(shù)據(jù)采集、分析功能滿足特殊工藝需求
○ 冷卻氮氣給燈管和石英腔體降溫
○ MFC 控制氣體流量通入石英腔體用來吹掃或反應
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