中普尼^TM（chinapony^TM）公司是最早從事凈化半導(dǎo)體技術(shù)產(chǎn)品研制工作的企業(yè)，為國(guó)際領(lǐng)先的凈化行業(yè)先驅(qū)之一。CPN-PSD-100/OP凈化顯影（勻膠）機(jī)是中普尼^TM（chinapony^TM）公司多年來(lái)的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品，一直暢銷于世界各地，廣泛應(yīng)用于機(jī)械電子、化工、醫(yī)藥衛(wèi)生、精密儀器制造、科研領(lǐng)域等行業(yè)。

品牌：   英文品牌：CHINAPONY^TM        中文品牌：中普尼 ^TM

是行業(yè)內(nèi)唯一 一家入選“中國(guó)品牌大會(huì)暨建國(guó)六十周年全國(guó)品牌盤點(diǎn)表彰盛典”并榮獲"中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)影響力十大暢銷品牌"的全球頂級(jí)制造商!

CPN-PSD-100/OP型凈化顯影機(jī)：

       CPN-PSD-100/OP型凈化顯影機(jī)亦是CPN-PS系列產(chǎn)品的基礎(chǔ)品種之一，是半導(dǎo)體器件制造過(guò)程中的專用工藝設(shè)備，采用先進(jìn)的單片微型機(jī)程序自動(dòng)控制，實(shí)現(xiàn)噴霧顯影工藝，電路清晰完整，由于控制系統(tǒng)穩(wěn)定，在進(jìn)行工藝中不飛片，顯影速度快（30S）和節(jié)省顯影液，主要用于科研和生產(chǎn)單位大規(guī)模集成電路和其他半導(dǎo)體器件的光刻工藝中作顯影之用。

       本機(jī)顯影工藝采用了先進(jìn)的噴霧方式，可根據(jù)工藝要求噴霧狀態(tài)電機(jī)的轉(zhuǎn)數(shù)，程序時(shí)間的工藝參數(shù)都可在很寬的數(shù)值范圍內(nèi)調(diào)整。其程序?yàn)檠訒r(shí)吸片-顯影-漂洗-干燥-延時(shí)復(fù)位。

       采用噴霧顯影工藝后電路圖形清晰完整，特別是對(duì)較細(xì)線條電路采用此工藝可得到很高的效果。

       本設(shè)備除能顯影工藝外,亦可進(jìn)行涂膠工藝.

主要技術(shù)指標(biāo)：                                                   

顯影工位：1個(gè)工位                                         

程序時(shí)間：顯影 1-99秒或999秒

          漂洗 1-99秒或999秒                                       

          干燥 1-99秒或999秒                                                   

旋轉(zhuǎn)器轉(zhuǎn)數(shù)：500-8000轉(zhuǎn)/分（連續(xù)可調(diào)）                                        

硅片直徑：Φ1—Φ100mm                                                                 

凈化效果：100級(jí)（美國(guó)聯(lián)邦標(biāo)準(zhǔn)）                                                

操作區(qū)風(fēng)速：0.3-0.5米/秒 

氣流狀態(tài)：垂直層流

外形尺寸：1620mm（高）*650（寬）*800

整機(jī)包裝重量：150KG

氮?dú)庠矗篘2管道或鋼瓶（進(jìn)氣壓力0.2-0.3MP/cm²）