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    包郵 關(guān)注:1514

    團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng)主要用于非晶硅太陽(yáng)能電池的研究和制作

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè):

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-其他

    產(chǎn)品品牌

    北京北儀

    規(guī)格型號(hào):

    團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng)

    庫(kù)       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    中國(guó)-北京市

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價(jià)       格:

    10000.00
    交易保障 擔(dān)保交易 網(wǎng)銀支付

    品牌:北京北儀

    型號(hào):團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng)

    所屬系列:半導(dǎo)體加工設(shè)備-鍍膜設(shè)備-其他

    團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng) 北京北儀
    • 團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng)應(yīng)用范圍:主要用于非晶硅太陽(yáng)能電池的研究和制作
    • 團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng)技術(shù)特點(diǎn):能在真空環(huán)境下連續(xù)處理多種CVD工藝過(guò)程
    • 團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng)主要技術(shù)參數(shù):


    • 團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng)

      Cluster Multi-chamber CVD Deposition System

       

      技術(shù)參數(shù)Parameter

      真空室尺寸

      Vacuum chamber size

      主真空室尺寸:Server chamber

      Φ760×270mm

      工作真空室尺寸:

      Workstation chamber

      PECVD

      250×250×300mm

      VHFCVD

      510×250×300mm

      HWCVD

      550×250×300mm

      進(jìn)出片室尺寸;Loading chamber

      250×286×300mm

      主真空室工位數(shù):

      Server position of server chamber

      6

      工作真空室數(shù):

      Number of Workstation chamber

      5

      真空系統(tǒng)

      Vacuum system

      傳輸室:Server chamber

      F150+D30C

      工作真空室:

      Workstation chamber

      F100+D30C

      進(jìn)出片室:Loading chamber

      D30C

      極限壓力

      Ultimate pressure

      傳輸室:Server chamber

      5×10-4Pa

      工作真空室:

      Workstation chamber

      5×10-5Pa

      進(jìn)出片室:Loading chamber

      5×10-1Pa

      工件尺寸

      Substrate size

      工件最大尺寸:

      Maximum diameter

      100×100mm

      工件最大重量:Maximum weight

      2kg

      最大同時(shí)處理數(shù)量:

      Maximum loading capacity

      4

      操作

      Operation

      全自動(dòng)+計(jì)算機(jī)流程控制

      Fully automatic computer control

      PLC控制

      PLC control

      氣路控制系統(tǒng)

      Gas system

      全套進(jìn)口件氣路  16路進(jìn)口流量計(jì)  進(jìn)口變通導(dǎo)閥門(mén)

      9路氣體(N2、Ar、SiH4、NH3NOX、TMB、B2H6CH4、CO2

      imported gas path,16-ways imported MFC,imported alterable valve 9 routes

      (N2、ArSiH4、NH3NOX、TMB、B2H6、CH4CO)

      

       北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司(原北京儀器廠)創(chuàng)建于1954年,總部位于中央商務(wù)區(qū)(CBD)的中心位置。生產(chǎn)基地位于大興工業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū),占地面積31064平方米,建筑面積45504平方米。2003年通過(guò)ISO-2000質(zhì)量體系認(rèn)證。共有真空獲得、真空測(cè)量、真空應(yīng)用三大類產(chǎn)品,從低真空到超高真空30多個(gè)系列160多個(gè)品種。產(chǎn)品廣泛地應(yīng)用于航天航空、電子信息、光學(xué)產(chǎn)業(yè)、冶金、建筑裝飾、食品、紡織、電力環(huán)保及新能源等行業(yè)。經(jīng)過(guò)50多年對(duì)真空技術(shù)的探索,通過(guò)與全國(guó)多所大專院校、研究院所進(jìn)行的多次合作開(kāi)發(fā),以及公司研發(fā)人員不斷的創(chuàng)新與研發(fā),北儀創(chuàng)新公司始終站在中國(guó)真空行業(yè)的前沿。
        在真空測(cè)量技術(shù)、真空獲得技術(shù)、光學(xué)多層全自動(dòng)鍍膜技術(shù)、通用磁控濺射及多靶磁控濺射技術(shù)(DC、MC、RF濺射技術(shù))以及PECVD技術(shù)等方面處于國(guó)內(nèi)領(lǐng)先,并有多項(xiàng)科研成果獲得國(guó)家專利。近年來(lái),為多個(gè)院校、研究院所開(kāi)發(fā)制造多臺(tái)用于研究薄膜太陽(yáng)能電池的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備。在擁有成熟的真空技術(shù)的基礎(chǔ)上,2006年北儀創(chuàng)新公司研制成功了國(guó)內(nèi)首條自行設(shè)計(jì)制造的非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線,其核心是采用單室多片大面積PECVD沉積技術(shù),用于生產(chǎn)大型玻璃光電模板一次完成多片數(shù)十平方米的雙節(jié)非晶硅薄膜的沉積,在相對(duì)低的設(shè)備投資下取得較高的大面積模板的產(chǎn)量,產(chǎn)品的性能指標(biāo)達(dá)到國(guó)際同等水平,設(shè)備銷(xiāo)往廣東、福建、浙江等地區(qū),改變了以往我國(guó)非晶硅薄膜電池生產(chǎn)線依靠進(jìn)口的現(xiàn)狀。

    北儀創(chuàng)新公司一貫秉承并將繼續(xù)堅(jiān)持“誠(chéng)信 精益”的企業(yè)精神,不斷汲取客戶的建議及業(yè)界的先進(jìn)技術(shù),以“顧客先導(dǎo) 持續(xù)改進(jìn)”的價(jià)值觀在合作中實(shí)現(xiàn)共贏。

     
     

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    請(qǐng)問(wèn)這臺(tái)機(jī)的工作電壓是幾伏的占地多大?團(tuán)簇型多室有什么優(yōu)勢(shì)?

    caoweihuo  2017-07-11

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