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團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng) 北京北儀

團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng)應(yīng)用范圍：主要用于非晶硅太陽能電池的研究和制作
團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng)技術(shù)特點(diǎn)：能在真空環(huán)境下連續(xù)處理多種CVD工藝過程
團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng)主要技術(shù)參數(shù)：

團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng)

Cluster Multi-chamber CVD Deposition System

技術(shù)參數(shù)Parameter
真空室尺寸 Vacuum chamber size	主真空室尺寸：Server chamber	Φ760×270mm
	工作真空室尺寸： Workstation chamber	PECVD室	250×250×300mm
		VHFCVD室	510×250×300mm
		HWCVD室	550×250×300mm
	進(jìn)出片室尺寸;Loading chamber	250×286×300mm
	主真空室工位數(shù)： Server position of server chamber	6
	工作真空室數(shù)： Number of Workstation chamber	5
真空系統(tǒng) Vacuum system	傳輸室：Server chamber	F150+D30C
	工作真空室： Workstation chamber	F100+D30C
	進(jìn)出片室：Loading chamber	D30C
極限壓力 Ultimate pressure	傳輸室：Server chamber	5×10-4Pa
	工作真空室： Workstation chamber	5×10-5Pa
	進(jìn)出片室：Loading chamber	5×10-1Pa
工件尺寸 Substrate size	工件最大尺寸： Maximum diameter	100×100mm
	工件最大重量：Maximum weight	2kg
	最大同時(shí)處理數(shù)量： Maximum loading capacity	4
操作 Operation	全自動(dòng)+計(jì)算機(jī)流程控制 Fully automatic computer control	PLC控制 PLC control
氣路控制系統(tǒng) Gas system	全套進(jìn)口件氣路 16路進(jìn)口流量計(jì) 進(jìn)口變通導(dǎo)閥門 9路氣體（N2、Ar、SiH4、NH3、NOX、TMB、B2H6、CH4、CO2） imported gas path,16-ways imported MFC,imported alterable valve 9 routes (N2、Ar、SiH4、NH3、NOX、TMB、B2H6、CH4、CO2 )

北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司（原北京儀器廠）創(chuàng)建于1954年，總部位于中央商務(wù)區(qū)（CBD）的中心位置。生產(chǎn)基地位于大興工業(yè)開發(fā)區(qū)，占地面積31064平方米，建筑面積45504平方米。2003年通過ISO-2000質(zhì)量體系認(rèn)證。共有真空獲得、真空測量、真空應(yīng)用三大類產(chǎn)品，從低真空到超高真空30多個(gè)系列160多個(gè)品種。產(chǎn)品廣泛地應(yīng)用于航天航空、電子信息、光學(xué)產(chǎn)業(yè)、冶金、建筑裝飾、食品、紡織、電力環(huán)保及新能源等行業(yè)。經(jīng)過50多年對真空技術(shù)的探索，通過與全國多所大專院校、研究院所進(jìn)行的多次合作開發(fā)，以及公司研發(fā)人員不斷的創(chuàng)新與研發(fā)，北儀創(chuàng)新公司始終站在中國真空行業(yè)的前沿。
在真空測量技術(shù)、真空獲得技術(shù)、光學(xué)多層全自動(dòng)鍍膜技術(shù)、通用磁控濺射及多靶磁控濺射技術(shù)（DC、MC、RF濺射技術(shù)）以及PECVD技術(shù)等方面處于國內(nèi)領(lǐng)先，并有多項(xiàng)科研成果獲得國家專利。近年來，為多個(gè)院校、研究院所開發(fā)制造多臺用于研究薄膜太陽能電池的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備。在擁有成熟的真空技術(shù)的基礎(chǔ)上，2006年北儀創(chuàng)新公司研制成功了國內(nèi)首條自行設(shè)計(jì)制造的非晶硅薄膜太陽能電池生產(chǎn)線，其核心是采用單室多片大面積PECVD沉積技術(shù)，用于生產(chǎn)大型玻璃光電模板一次完成多片數(shù)十平方米的雙節(jié)非晶硅薄膜的沉積，在相對低的設(shè)備投資下取得較高的大面積模板的產(chǎn)量，產(chǎn)品的性能指標(biāo)達(dá)到國際同等水平，設(shè)備銷往廣東、福建、浙江等地區(qū)，改變了以往我國非晶硅薄膜電池生產(chǎn)線依靠進(jìn)口的現(xiàn)狀。

北儀創(chuàng)新公司一貫秉承并將繼續(xù)堅(jiān)持“誠信精益”的企業(yè)精神，不斷汲取客戶的建議及業(yè)界的先進(jìn)技術(shù)，以“顧客先導(dǎo) 持續(xù)改進(jìn)”的價(jià)值觀在合作中實(shí)現(xiàn)共贏。

團(tuán)簇型多室CVD沉積系統(tǒng)主要用于非晶硅太陽能電池的研究和制作

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