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    氮化鈦靶材TiN磁控濺射靶材

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-鍍膜設備-其他

    產品品牌

    晶邁中科

    規(guī)格型號:

    根據(jù)客戶要求定制

    庫       存:

    10

    產       地:

    全國

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    面議
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    品牌:晶邁中科

    型號:根據(jù)客戶要求定制

    所屬系列:半導體加工設備-鍍膜設備-其他

     科研實驗專用氮化鈦靶材TiN磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料
    產品介紹
           氮化鈦(TiN)熔點:2950℃,密度:5.43-5.44g/cm³,莫氏硬度8-9,抗熱沖擊性好。其熔點比大多數(shù)過渡金屬氮化物的熔點高,而密度卻比大多數(shù)金屬氮化物低,因此是一種很有特色的耐熱材料。在高溫下不與鐵、鉻、鈣和鎂等金屬反應,TiN坩堝在CO與N2氣氛下也不與酸性渣和堿性渣起作用,因此TiN坩堝是研究剛液與一些元素相互作用的優(yōu)良容器。TiN有著誘人的金黃色、熔點高、硬度大、化學穩(wěn)定性好、與金屬的潤濕小的結構材料、并具有較高的導電性和超導性
    ,可應用于高溫結構材料和超導材料。
    產品參數(shù)
    中文名 氮化鈦     化學式 TiN
    熔點 2950℃       密度 5.43g/cm3
    純度 99.9%
    中科

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