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等離子增強型化學沉積設(shè)備(PECVD) 北京中科信電子裝備有限公司

PECVD是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)。

主要特點：
1.采用臥式熱壁型模式，有效提升產(chǎn)能；
2.采用高分辨率熱偶及防干擾技術(shù)，確保射頻放電時溫度場穩(wěn)定；
3.完善的射頻自動匹配系統(tǒng)，及全自動工藝參數(shù)控制系統(tǒng)；
4.高可靠的真空系統(tǒng)，獨特的反應管位移控制裝置，確保真空系統(tǒng)長期使用穩(wěn)定；
5.可選的4管配置及自動上下料機械手配置，充分考慮客戶的個性化需求；
6.可選的背靠背8管PECVD，減少占地，節(jié)約廠房空間及運行成本。

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