型號(hào)：SEE-5, VS4；

  電子束蒸發(fā)是真空蒸鍍的一種，它是在鎢絲熱蒸發(fā)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的技術(shù)。電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)可以蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料，比一般熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)的熱效率高、束流密度大、蒸發(fā)速度快，制備的薄膜純度高、質(zhì)量好，薄膜的厚度可以較準(zhǔn)確地控制。

   技術(shù)規(guī)格特點(diǎn)：

- 電子束源：四袋或六袋電子束槍?zhuān)?/span>

- 電子束電源：6KW；

- 腔體：鋁合金或不銹鋼材料可供客戶(hù)選擇，不同尺寸的箱式腔室可選；

- 泵：分子泵，冷凝泵可選；

- Load Lock樣品傳輸腔室：手動(dòng)或自動(dòng)傳輸，高真空，支持多種樣品襯底；

- 工藝控制：PC/PLC機(jī)制的自動(dòng)控制，使用GUI進(jìn)行工藝控制、數(shù)據(jù)處理、遠(yuǎn)程支持；

- 原位監(jiān)控：石英晶振監(jiān)測(cè)(QCM)，光學(xué)監(jiān)測(cè)，殘余氣體分析，其他原位監(jiān)測(cè)技術(shù)或控制；

- 襯底固定：?jiǎn)我r底固定，多襯底固定，行星式襯底固定，客戶(hù)化襯底固定方式；

- 襯底夾具：加熱，冷卻，偏置，旋轉(zhuǎn)等；

- 離子源：襯底預(yù)先清洗輔助沉積，納米尺度表面修飾；

       電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是化合物半導(dǎo)體器件制作中的一種重要工藝技術(shù)；它是在高真空狀態(tài)下由電子束加熱坩堝中的金屬，使其熔融后蒸發(fā)到所需基片上形成金屬膜。可蒸發(fā)很多難熔金屬或者蒸汽壓低的金屬材料，包括Ta, W, Mo, Rh, C, B, Pt, Al2O3, ZnO, Pr2O3…

技術(shù)參數(shù)：
1. 蒸發(fā)室尺寸：24"×24"× 21"；

2. 極限真空度：≤5×10-7托；

3. 電子槍功率： 6千瓦可調(diào)；

4. 蒸發(fā)速率：可由晶體振蕩器監(jiān)控厚度和沉積速率；

5. 可蒸發(fā)金屬膜Al,Ti,Pt,Au,Ag,Cu,NiCr等；

6. 膜厚度誤差 ≤±5%，膜厚均勻性誤差 ≤±5% 。

主要特點(diǎn)：
1. 安全簡(jiǎn)易的軟件操作系統(tǒng)，四個(gè)不同級(jí)別的用戶(hù)權(quán)限（操作、工藝、工程師以及維修保養(yǎng)）最大限度的保證系統(tǒng)的安全。

2. 雙腔設(shè)計(jì)：蒸發(fā)材料和晶片分別處于不同的腔體中，使得源材料的更換和晶片的裝載過(guò)程中最大限度的保證腔體的潔凈程度和縮短抽真空的時(shí)間。

3. 較大的前腔門(mén)使得在維修和保養(yǎng)的過(guò)程中極為方便。

4. 采用衛(wèi)星旋轉(zhuǎn)式晶片裝載夾具，可以根據(jù)不同的產(chǎn)量的需要升級(jí)晶片直徑或增加夾具的數(shù)量。衛(wèi)星旋轉(zhuǎn)式夾具保證了沉積薄膜的均勻性。

參考用戶(hù)：

     廣東工業(yè)大學(xué)、華中科技大學(xué)、廈門(mén)大學(xué)等.