超高真空多腔體電子束蒸鍍系統(tǒng)

磁控濺射、電子束蒸鍍、超高真空、鍍膜、約瑟夫森結(jié)、超導(dǎo)、量子器件、量子比特、

多腔體、Qubit、UHV、鈮基超導(dǎo)、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、sputtering system

Evaporation system、Nb-based superconductor、超導(dǎo)鋁結(jié)、Josephson junction

品牌：PLASSYS  型號：MEB 550SL3      產(chǎn)地：歐洲 法國      應(yīng)用：約瑟夫森結(jié)（Al, Nb, NbN, NbTiN）

超高真空多腔體電子束蒸發(fā)鍍膜儀

電子束蒸鍍儀是納米器件制備中必不可少的儀器，用于蒸鍍各種高純金屬薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。電子束蒸發(fā)沉積法可在同一蒸發(fā)沉積裝置中安裝多個坩堝，使得可以蒸發(fā)和沉積多種不同的高質(zhì)量金屬薄膜。開展量子計算機(jī)實驗研究，如基于金剛石NV色心，離子阱，超導(dǎo)量子結(jié)，量子點電子自旋的研究，均需要蒸鍍各種高質(zhì)量金屬薄膜來制備量子器件，特別是在利用超導(dǎo)量子結(jié)來實現(xiàn)量子計算的實驗研究中，Josephson結(jié)的制備最為關(guān)鍵：需要在非常干凈的蒸鍍腔里進(jìn)行，而且需要在不同的角度上蒸鍍兩次，兩次之間需要注入氧氣進(jìn)行金屬氧化。所以樣品臺必須具有三維的旋轉(zhuǎn)功能，同時，蒸鍍腔內(nèi)還需要有可以注射氧氣及其他氣體來實現(xiàn)清潔和氧化過程。

推薦配置：可以用于沉積Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金屬及氧化物薄膜，目前全球主要超導(dǎo)量子實驗室均使用該設(shè)備制備超導(dǎo)Al結(jié)（量子比特和約瑟夫森結(jié)）和量子器件，可以制備大面積、高度穩(wěn)定性和可重復(fù)性超導(dǎo)結(jié)。更詳細(xì)信息或資料，請咨詢我們！

預(yù)處理腔：襯底旋轉(zhuǎn)、傾斜（3D）；干泵+ 分子泵; 真空度10^-8 T

蒸發(fā)鍍膜腔：電子槍6-15KW；

樣品臺：可加載4英寸襯底；

               襯底可加熱到800℃

               襯底旋轉(zhuǎn)、傾斜，

               傾斜精度和重復(fù)性優(yōu)于0.1°（可升級）

真空泵系統(tǒng)：干泵 + 低溫泵；

                       真空度10^-10T或10^-11T

膜厚控制儀：頻率分辨率10^-4Hz或更高；

                      速率分辨率10^-3nm/s；

                      厚度分辨率10^-2nm

殘余氣體分析儀

反應(yīng)蒸鍍：氧氣氣路+MFC 

氧化腔體：靜態(tài)/動態(tài)氧化

                  臭氧發(fā)生器/原子氧發(fā)生源/輝光放電；

                  鹵素?zé)艏訜嶂磷罡?00℃

                   殘余氣體分析儀

分子泵 + 干泵；真空度<10^-8 T 

全自動軟件包，支持半自動和手動模式，支持遠(yuǎn)程網(wǎng)絡(luò)操作和維護(hù)。

典型用戶：耶魯大學(xué)、日本NTT、中科院物理所、中科大、南大、南方科技大學(xué)