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MEMS光刻掩膜版

發(fā)表于：2016-09-27 作者：gq3299 關(guān)注度：280

應用行業(yè)：用于機器視覺，自動化設(shè)備，AOI/SMT貼片機,影像測量儀，工業(yè)相機, 計量所，高校，半導體行業(yè)等。

詳細介紹

　　運用在TP行業(yè)，平板顯示器行業(yè)，PCB＆FPC行業(yè)。
　　目前，公司的產(chǎn)品廣泛應用于液晶顯示器（LCD）、有機電致發(fā)光顯示器（OLED）、等離子體顯示板（PDP）等平板顯示、平面顯示器行業(yè)（FPD）和集成電路（IC）及其封裝（ICP）等行業(yè)：　
　　
　　◆TFT、彩色STN、STN和TNLCD（液晶顯示器）鉻版掩膜版；　　　
　　◆EL、OLED鉻版掩膜版；　　　
　　◆PDP、VFD　鉻版掩膜版；　　　
　　◆IC封裝、HDI，包括BGA，BUMPING等生產(chǎn)用鉻版掩膜版和干版掩膜版；　　　
　　◆IC　Lead　frame用鉻版掩膜版；　　　
　　◆MEMS、SENSOR和ENCODER等精細電子元器件用鉻版掩膜版；　　　
　　◆高科技零件及系統(tǒng)等制造商或相關(guān)學術(shù)研究機構(gòu)、組裝廠等；　　　
　　其中最廣泛使用在LCD、OLED等平板顯示行業(yè)及PCB等行業(yè)中