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北大軟微學(xué)院微納米中心

發(fā)表于:2016-03-01  作者:pku-wx  關(guān)注度:3318

主要技術(shù)服務(wù)內(nèi)容:8寸及以下樣片精密減薄拋光
   
     北京大學(xué)微電子系在中國(guó)微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展過(guò)程中有著輝煌的歷史。在20世紀(jì)七十年代研制出我國(guó)第一塊三種類型包括硅柵N溝道1K MOS DRAM,是我國(guó)微電子科學(xué)技術(shù)史上的重要里程碑之一,獲全國(guó)科學(xué)大會(huì)獎(jiǎng),是中國(guó)最早的大規(guī)模集成電路的發(fā)源地之一。
北大軟微學(xué)院微納米加工中心依托北京大學(xué)微電子學(xué)研究院科研技術(shù)力量建立,立足長(zhǎng)三角地區(qū),以科研帶動(dòng)產(chǎn)業(yè)發(fā)展。中心擁有半導(dǎo)體材料減薄拋光和檢測(cè)國(guó)際先進(jìn)設(shè)備,可承接Si,SiC, GaAs, InP,CZT, MCT 等多種半導(dǎo)體材料加工測(cè)試,加工樣品尺寸為8寸、6寸及4寸。

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