電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
用途
• 研發(fā)電子束沉積
• 剝離蒸發(fā)
• 陰影蒸發(fā)
• 光學(xué)膜
• 超導(dǎo)體的發(fā)展
特點(diǎn)
• 最優(yōu)化的電子束蒸發(fā)工藝
• UHV 兼容設(shè)計(jì)
• 便于開啟的腔室,易于操作的沉積源
• 模塊化樣品臺(tái)
• 固態(tài)電源電子束源與離子源控制系統(tǒng)
• 控制軟件
• 高真空渦輪分子泵
功能選項(xiàng)
· 可升級到低溫泵或磁懸浮渦輪泵超高本底真空泵
· 可升級到干式粗抽泵
· 基片旋轉(zhuǎn),加熱,冷卻和偏壓功能
· 反應(yīng)氣體進(jìn)氣
· 離子源(輔助沉積或刻蝕)
· 可調(diào)節(jié)的基片與蒸發(fā)源距離
· 可升級進(jìn)樣室功能
· 高功率電子束源
· 上游或下游壓力控制
咨詢
你們這個(gè)設(shè)備總功率多大,,靶材利用率多高???
工藝腔室:UHV 級,304不銹鋼, 名義尺寸14英寸直徑X 37英寸高
售后保障
質(zhì)保期:客戶確認(rèn)簽收之日起12個(gè)月,可支付額外的費(fèi)用延長質(zhì)保期