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JP系列鍍膜機適用范圍：
適用于企業(yè)批量化生產(chǎn)高致密度高結(jié)合力薄膜。
JP系列鍍膜機技術(shù)特點：
配備DC或RF磁控濺射源，側(cè)面濺射，可濺射金屬和介質(zhì)材料；濺射靶可方便清潔和更換；工件架鼠籠式多邊型結(jié)構(gòu)或公自轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，裝夾量大，適應(yīng)性強。

主要技術(shù)性能參數(shù)：

型號Model 參數(shù)Parameter	JP-700	JP-900
濺射室尺寸∕mm	Φ700×860	Φ900×1200
濺射方向	側(cè)面濺射
濺射室類型	立式前開門方式
極限壓力∕Pa	5×10^-4
抽氣時間∕min	從1×10⁵Pa至2×10^-3Pa≤20
濺射工作壓力∕Pa	10-10^-1
真空系統(tǒng)	油擴散泵系統(tǒng) 氣動閥門
濺射靶尺寸∕mm	80×740	120×1050
濺射靶數(shù)量	1個或2個
靶電源功率∕kWS	1套DC10	1套DC25
工作旋轉(zhuǎn)∕r•min^-1	3-12
工件盤直徑∕mm	-	-
烘烤溫度∕	室溫至300 可調(diào)
工藝氣體控制方式	一套質(zhì)量流量控制器，一套自動壓強儀
冷卻水流量∕L•min^-1	20	25
水壓∕kPa	2.5×10⁵
進水溫度∕℃	≤25
壓縮空氣∕kPa	（5-8）×10⁵
用電功率∕kW	25	60
占地面積∕mm 寬×深×高	2000×2500×2100	2500×3000×2300

北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責任公司（原北京儀器廠）創(chuàng)建于1954年，總部位于中央商務(wù)區(qū)（CBD）的中心位置。生產(chǎn)基地位于大興工業(yè)開發(fā)區(qū)，占地面積31064平方米，建筑面積45504平方米。2003年通過ISO-2000質(zhì)量體系認證。共有真空獲得、真空測量、真空應(yīng)用三大類產(chǎn)品，從低真空到超高真空30多個系列160多個品種。產(chǎn)品廣泛地應(yīng)用于航天航空、電子信息、光學產(chǎn)業(yè)、冶金、建筑裝飾、食品、紡織、電力環(huán)保及新能源等行業(yè)。經(jīng)過50多年對真空技術(shù)的探索，通過與全國多所大專院校、研究院所進行的多次合作開發(fā)，以及公司研發(fā)人員不斷的創(chuàng)新與研發(fā)，北儀創(chuàng)新公司始終站在中國真空行業(yè)的前沿。
在真空測量技術(shù)、真空獲得技術(shù)、光學多層全自動鍍膜技術(shù)、通用磁控濺射及多靶磁控濺射技術(shù)（DC、MC、RF濺射技術(shù)）以及PECVD技術(shù)等方面處于國內(nèi)領(lǐng)先，并有多項科研成果獲得國家專利。近年來，為多個院校、研究院所開發(fā)制造多臺用于研究薄膜太陽能電池的實驗室設(shè)備。在擁有成熟的真空技術(shù)的基礎(chǔ)上，2006年北儀創(chuàng)新公司研制成功了國內(nèi)首條自行設(shè)計制造的非晶硅薄膜太陽能電池生產(chǎn)線，其核心是采用單室多片大面積PECVD沉積技術(shù)，用于生產(chǎn)大型玻璃光電模板一次完成多片數(shù)十平方米的雙節(jié)非晶硅薄膜的沉積，在相對低的設(shè)備投資下取得較高的大面積模板的產(chǎn)量，產(chǎn)品的性能指標達到國際同等水平，設(shè)備銷往廣東、福建、浙江等地區(qū)，改變了以往我國非晶硅薄膜電池生產(chǎn)線依靠進口的現(xiàn)狀。

北儀創(chuàng)新公司一貫秉承并將繼續(xù)堅持“誠信精益”的企業(yè)精神，不斷汲取客戶的建議及業(yè)界的先進技術(shù)，以“顧客先導持續(xù)改進”的價值觀在合作中實現(xiàn)共贏。

JP系列鍍膜機適用于企業(yè)批量化生產(chǎn)高致密度高結(jié)合力薄膜

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