網(wǎng)站首頁

|EN

當前位置: 首頁 » 設備館 » 半導體加工設備 » 鍍膜設備 » 等離子沉積設備 »ZZSX系列鍍膜機用于多層膜的鍍制可制作各種濾光膜、反射膜、透射膜
    包郵 關注:766

    ZZSX系列鍍膜機用于多層膜的鍍制可制作各種濾光膜、反射膜、透射膜

    應用于半導體行業(yè):

    半導體加工設備-鍍膜設備-等離子沉積設備

    產(chǎn)品品牌

    北京北儀

    規(guī)格型號:

    ZZSX系列鍍膜機

    庫       存:

    100

    產(chǎn)       地:

    中國-北京市

    數(shù)       量:

    減少 增加

    價       格:

    10000.00
    交易保障 擔保交易 網(wǎng)銀支付
    • 商品詳情
    • 商品參數(shù)
    • 評價詳情(0)
    • 裝箱清單
    • 售后保障

    品牌:北京北儀

    型號:ZZSX系列鍍膜機

    所屬系列:半導體加工設備-鍍膜設備-等離子沉積設備

    ZZSX系列鍍膜機應用范圍:
    主要用于多層膜的鍍制,可制作各種濾光膜、反射膜、透射膜。
    ZZSX系列鍍膜機技術特點:
    根據(jù)需要可以增加或提高配置,如真空系統(tǒng)選用分子泵、低溫泵;真空室配低溫捕集器;膜厚控制采用石英晶體膜厚控制儀;輔助鍍膜采用離子源、RF射頻轟擊等。
    ZZSX系列鍍膜機主要技術參數(shù):

    型號  參數(shù)

    ZZSX-500

    ZZSX-700

    ZZSX-800

    ZZSX-1100

    ZZSX-1200

    ZZSX-1350

    結構形式

    箱式前開門后置抽氣系統(tǒng)

    真空室尺寸  寬×深×高/mm

    500×500×680

    700×700×860

    800×800×1000

    1100×1100×1200

    Φ1200×1200

    Φ1350×1240

    極限壓力/Pa

    ≤5×10-4Pa

    抽氣時間/min

    從1×105Pa抽至2×10-3Pa≤20

    蒸發(fā)源

    e型270磁偏轉電子槍

    加速電壓/KV

    6,10兩檔可切換

     

     

    數(shù)量/套

    1

    1(根據(jù)用戶需要可安裝2套)

     

     

    功率/kv

    6

    10

     

     

    坩堝容積/ml及穴數(shù)

    20×4(或110環(huán)形坩堝)

    22×4(或120環(huán)形坩堝)

     

    電阻加熱式

    電壓/v

    5,10

     

     

    功率/kw

    2.5

    5

     

     

    水冷電極/對數(shù)

    2/交替蒸發(fā)

    工件架類型及尺寸/mm

    整體拱形夾具Φ460

    4片拱形夾具Φ650

    4片拱形夾具Φ740;行星夾具Φ450×3任選一種

    4片拱形夾具Φ1000;行星夾具Φ770×3任選一種

    4片拱形夾具Φ1100

    4片拱形夾具Φ1240

    工件烘烤

    功率/kw

    4.5

    4.5

    9

    13.5

     

    溫度/℃

    350

    直流離子轟擊

    最高電壓/v

    3400

     

    額定功率/kw

    1

    1.5

    真空系統(tǒng)配置

    K-400油擴散泵系統(tǒng)

    KT-500油擴散泵系統(tǒng)

    K-600油擴散泵系統(tǒng)

    KT-600油擴散泵系統(tǒng)

    K-800油擴散泵系統(tǒng)

    雙套K-600油擴散泵系統(tǒng)

    光學鍍膜控制

    光纖光路,透,反射控制,波長380nm-760nm(可擴展至380nm-1100nm)

    水冷

    水壓/Pa

    ~2.5×105Pa

     

    水溫/℃

    <25

    壓縮空氣/Pa

    (5-8)×105Pa

    總功率/kw

    22

    25

    35

    46

    54

    56

    占地面積/mm長×深×高

    2600×2500×1900

    2800×2700×2100

    3200×3200×2400

    3500×3600×2600

    4000×3600×2600

    4200×4000×2800



     
     
     
       北京北儀創(chuàng)新真空技術有限責任公司(原北京儀器廠)創(chuàng)建于1954年,總部位于中央商務區(qū)(CBD)的中心位置。生產(chǎn)基地位于大興工業(yè)開發(fā)區(qū),占地面積31064平方米,建筑面積45504平方米。2003年通過ISO-2000質(zhì)量體系認證。共有真空獲得、真空測量、真空應用三大類產(chǎn)品,從低真空到超高真空30多個系列160多個品種。產(chǎn)品廣泛地應用于航天航空、電子信息、光學產(chǎn)業(yè)、冶金、建筑裝飾、食品、紡織、電力環(huán)保及新能源等行業(yè)。經(jīng)過50多年對真空技術的探索,通過與全國多所大專院校、研究院所進行的多次合作開發(fā),以及公司研發(fā)人員不斷的創(chuàng)新與研發(fā),北儀創(chuàng)新公司始終站在中國真空行業(yè)的前沿。
        在真空測量技術、真空獲得技術、光學多層全自動鍍膜技術、通用磁控濺射及多靶磁控濺射技術(DC、MC、RF濺射技術)以及PECVD技術等方面處于國內(nèi)領先,并有多項科研成果獲得國家專利。近年來,為多個院校、研究院所開發(fā)制造多臺用于研究薄膜太陽能電池的實驗室設備。在擁有成熟的真空技術的基礎上,2006年北儀創(chuàng)新公司研制成功了國內(nèi)首條自行設計制造的非晶硅薄膜太陽能電池生產(chǎn)線,其核心是采用單室多片大面積PECVD沉積技術,用于生產(chǎn)大型玻璃光電模板一次完成多片數(shù)十平方米的雙節(jié)非晶硅薄膜的沉積,在相對低的設備投資下取得較高的大面積模板的產(chǎn)量,產(chǎn)品的性能指標達到國際同等水平,設備銷往廣東、福建、浙江等地區(qū),改變了以往我國非晶硅薄膜電池生產(chǎn)線依靠進口的現(xiàn)狀。
     

    北儀創(chuàng)新公司一貫秉承并將繼續(xù)堅持“誠信 精益”的企業(yè)精神,不斷汲取客戶的建議及業(yè)界的先進技術,以“顧客先導 持續(xù)改進”的價值觀在合作中實現(xiàn)共贏。

     
     
     
     

    咨詢

    購買之前,如有問題,請向我們咨詢

    提問:
     

    應用于半導體行業(yè)的相關同類產(chǎn)品:

    服務熱線

    4001027270

    功能和特性

    價格和優(yōu)惠

    微信公眾號