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    包郵 關(guān)注:389

    等離子輔助MOCVD

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    100

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    全國

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    等離子輔助MOCVD技術(shù)

    NMC-3000 等離子輔助MOCVD系統(tǒng)概述：NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動控制，完全的安全互鎖。

    目前，這項技術(shù)延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求。

    NMC-3000 等離子輔助MOCVD系統(tǒng)應(yīng)用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

    NMC-3000 等離子輔助MOCVD系統(tǒng)特點：

    • 臺式系統(tǒng)
    • 5個帶獨立冷卻槽的起泡器
    • 加熱的氣體管路
    • 950 °C樣品臺，2”晶圓片
    • 3個氣體環(huán)
    • RF等離子源，帶淋浴頭氣體分布
    • 工藝完成后N2自動沖洗
    • 極限真空5x10-7Torr
    • 260 l/s的渦輪分子泵串接無油干泵
    • 通過LabView軟件實現(xiàn)PC計算機(jī)全自動控制
    • 菜單驅(qū)動，4級密碼訪問控制
    • 完整的安全聯(lián)鎖

     

    NMC-3000 等離子輔助MOCVD系統(tǒng) Features：

    • Table Top System 
    • ive Bubblers with Individual Cooling Baths
    • Heated Gas Lines
    • 950 °C Platen, 2” Wafer
    • Three Gas Rings
    • RF Plasma Source with Shower Head Gas Distribution
    • N2 Flush after Process
    • 5x 10-7 Torr base Pressure
    • 250 l/sec Turbomolecular Pump with Oil Free Scroll Pump
    • PC Controlled with LabVIEW
    • Recipe Driven, Password Protected
    • Fully Safety Interlocked

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