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    緊湊磁控濺射鍍膜機AP-MMS1 上海載德半導體

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-鍍膜設備-磁控濺射機

    庫       存：

    100

    產       地：

    韓國

    數       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
    交易保障 擔保交易 網銀支付

    品牌：

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-鍍膜設備-磁控濺射機



           磁控濺射鍍膜機 - 緊湊，適合科研，極高性價比！

    型號：AP-MMS1

    產地：韓國原裝進口

     

    儀器特點：

    1/ 沉積材料：金屬、氧化物等；

    2/ 膜厚均勻性：≤ ± 5 % (4英寸基底)；

    3/ 沉積方式：直流磁控濺射，射頻磁控濺射；

    4/ 極限真空：5.0 x 10 -6 Torr；

     

    技術規(guī)格：

    1/ 最大樣品尺寸：6英寸；

    2/ 基底旋轉：0~10rpm；

    3/ 不銹鋼腔體，ID250 x H300 mm；

    4/ 真空泵：機械泵，150L/Min；

    5/ 靶槍：2英寸直徑 (選配：3英寸)；

    6/ 直流電源：2KW(800V - 2.5A)；

    7/ 氣體傳輸模塊：MFC控制，氬氣，100sccm；

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