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關(guān)注:1082
BG-406系列曝光機(jī)（光刻機(jī)）
BG-406系列曝光機(jī)（光刻機(jī)）主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導(dǎo)體器件制造工藝中的對準(zhǔn)及曝光。該系列曝光機(jī)由4英寸、6英寸單/雙面曝光機(jī)組成，可實(shí)現(xiàn)單/雙面對準(zhǔn)、單面曝光、間隙曝光、全曝光。
主要技術(shù)特點(diǎn)
對準(zhǔn)工作臺
對準(zhǔn)精度高，漂移小。精密楔形誤差補(bǔ)償機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)三點(diǎn)找平，找平力小，延長掩模版使用壽命。
曝光系統(tǒng)
采用柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球鏡等精密光學(xué)件，具有較高的光強(qiáng)、均勻性、光學(xué)分辨率。
分離視場顯微鏡
在X、Y方向通過操作桿可實(shí)現(xiàn)大范圍掃描觀察，可進(jìn)行單視場或雙視場切換，提高對準(zhǔn)效率和套刻精度，同時兼容CCD成像液晶顯示功能。
控制系統(tǒng)
電氣控制采用工控機(jī)，人機(jī)界面操作菜單清晰，操作方便，汞燈電源易于觸發(fā)，可靠性高。該設(shè)備的關(guān)鍵件采用進(jìn)口或?qū)I(yè)廠家制造，提高了設(shè)備的穩(wěn)定性、可靠性，同時提供個性化服務(wù)。
□對準(zhǔn)工作臺行程:
X向：±5mm Y向：±5mm
Z向：8mm θ向：±5°
□掩模尺寸：7″×7″
□基片尺寸：φ6″
□曝光方式：軟接觸、硬接觸
真空接觸、間隙曝光、全曝光
□頂部對準(zhǔn)顯微鏡
總倍率：
100X （50X可選）
掃描范圍：50mm×50mm
調(diào)焦范圍：8mm
28-90mm（φ4″基片）
75-150mm（φ4″-φ6″基片）
對準(zhǔn)精度：±0.5um
□底部對準(zhǔn)顯微鏡
總倍率：330X
物鏡分離距離：
X向：50-140mm
Y向：±12mm
對準(zhǔn)精度：±2um
□曝光分辨率：1um （真空接觸）
□曝光間隙： 1-500um
□曝光面積： φ160 mm或φ108 mm
□曝光時間：0-999s 連續(xù)可調(diào)
□曝光不均勻性：
±5% (曝光面積：φ160 mm)
±3% (曝光面積：φ108mm)
□曝光系統(tǒng)及波長
采用250W進(jìn)口超高壓汞燈，UV365
□所需設(shè)施：
輸入電壓：～220v±22v(50Hz)
整機(jī)功率：1KW
室內(nèi)光線：紅光、黃光
壓縮空氣: 0.5～0.7MPa
氮?dú)猓?0.2～0.4MPa
真空： -0.08～-0.14MPa
□體積及重量：
外型尺寸： 1022mm×850mm×1330mm
重量：350kg
咨詢
設(shè)備接入氮?dú)庥袃蓚€作用，一個是為汞燈冷卻，一個是使用真空復(fù)印功能時破壞真空。使用氮?dú)獾氖且驗(yàn)槠浼儍舳雀?，對汞燈和光路具有很好的保護(hù)作用。對于高校、研究機(jī)構(gòu)，設(shè)備使用不是非常頻繁時，也可使用壓縮空氣，但壓縮空氣需要過濾后使用。
希望可以幫到您！
基片的尺寸范圍多大？分辨率、對準(zhǔn)精度多高？
適用基片尺寸最大6英寸，兼容4英寸及5英寸；
頂部對準(zhǔn)顯微鏡最大對準(zhǔn)精度可達(dá)±0.5um；底部對準(zhǔn)顯微鏡最大對準(zhǔn)精度可達(dá)± 2 um；
采用真空復(fù)印方式，最大分辨率可達(dá)1um
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