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    BG-401A曝光機

    應用于半導體行業(yè)：

    半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

    產(chǎn)品品牌

    第四十五研究所

    庫       存：

    10

    產(chǎn)       地：

    中國-北京市

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    品牌：第四十五研究所

    型號：

    所屬系列：半導體加工設備-光刻設備-UV光刻機

     BG-401A曝光機（光刻機）主要用于中小規(guī)模集成電路、聲表面波器件和其它各種半導體元器件制造工藝中的單面對準及曝光。最大兼容4英寸晶圓。

    主要技術特點

    對準工作臺：
    對準精度高，漂移小。精密楔形誤差補償機構實現(xiàn)三點找平，找平力小，延長掩模版使用壽命。                        

    曝光系統(tǒng)：
    采用柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球反射鏡等精密光學件，具有較高的光強、均勻性、光學分辨率。

    分離視場顯微鏡：
    在X、Y方面進行大范圍掃描觀察，可進行單視場或雙視場切換，提高對準效率和套準精度，同時兼容CCD成像顯示功能。

    電氣控制:
    采用可編程控制器（PLC）、LCD顯示屏，操作方便，汞燈電源易于觸發(fā)，可靠性高。該設備的關鍵件采用進口或?qū)I(yè)廠家制造，氣動元件采用SMC的產(chǎn)品，提高了設備的穩(wěn)定性、可靠性，同時提供個性化服務。





     詳細參數(shù)：
     工作臺行程：
     X向：±5mm Y向：±5mm
     Z向：3mm θ向：±12°
     掩模尺寸：Max5″×5″
     基片尺寸：Maxφ4″
     基片與掩模微分離間隙：0-0.05mm
     
     曝光分辨率：1.0um（真空接觸）
     曝光系統(tǒng)及波長：采用250W超高壓
     汞燈，UV365
     曝光方式：真空接觸、硬接觸
     曝光時間：0-999.9s連續(xù)可調(diào)
     曝光面積：φ108mm
     曝光不均勻性：±3%
     
     分離視場顯微鏡
     總倍率：100×（50×可選）
     掃描范圍：50mm×50mm
     調(diào)焦范圍：8mm
     物鏡分離距離：28-90mm
     
     所需設施：
     輸入電壓： ～220V±22 V(50Hz)
     整機功率： 1KW
     室內(nèi)光線: 紅色、黃色
     壓縮空氣： 0.5~0.7MPa
     氮氣： 0.2~0.4MPa
     真空： －0.08~－0.1MPa
     
     體積及重量：
     外形尺寸： 830mm×690mm×12700mm
     重量：300kg

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    hxsaaaa  2024-09-18

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