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當(dāng)前位置: 首頁 » 設(shè)備館 » 半導(dǎo)體加工設(shè)備 » 光刻設(shè)備 » UV光刻機(jī) »URE-2000S/A型紫外光刻機(jī) 成都晶普科技有限公司
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    包郵 關(guān)注:1143

    URE-2000S/A型紫外光刻機(jī) 成都晶普科技有限公司

    應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)：

    半導(dǎo)體加工設(shè)備-光刻設(shè)備-UV光刻機(jī)

    庫       存：

    100

    產(chǎn)       地：

    中國-四川省

    數(shù)       量：

    減少 增加

    價       格：

    面議
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    產(chǎn)品名稱：URE-2000S/A型紫外光刻機(jī)

    主要技術(shù)指標(biāo)：
      曝光面積：150mm×150mm
      分辨力：1μm（膠厚1.5 μm的正膠）
      對準(zhǔn)精度：±3μm（雙面）
      最大膠厚：500μm（SU8膠）
      掩模尺寸:3inch、4 inch、5 inch、7 inch
      樣片尺寸：直徑Ф30mm--Ф150mm 厚度0.1mm--6mm(可擴(kuò)展為15mm)
      照明均勻性：±3.5%Ф100mm) ±5.5%(Ф150mm)
      汞燈功率：1000W（直流）
      掩模相對于樣片運(yùn)動行程：X: ±5mm; Y: ±5mm; θ: ±6°

    技術(shù)特點：
    該機(jī)采用國內(nèi)首創(chuàng)的CCD圖像底面對準(zhǔn)技術(shù)，單曝光頭正面曝光實現(xiàn)雙面對準(zhǔn)的總體設(shè)計技術(shù)。采用新穎的高精度、多自由度掩模—樣片精密對準(zhǔn)工件臺結(jié)構(gòu)設(shè)計，掩模—樣片對準(zhǔn)過程直觀，套刻對準(zhǔn)速度快、精度高。掩模板與樣片的放置采用推拉式基準(zhǔn)平板、真空吸附式，操作方便。

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